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SI Japan - 45 nm Wafer cleaning solution
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2007 年3 月27 日、東京コンファレンスセンター・品川にて、
Semiconductor International 日本版（SIJ）主催の第10 回テ
クニカルセミナー「45nm Wafer Cleaning Solution ～洗浄技
術徹底討論会～」が開催された。今回のセミナーでは、ソニー
半導体事業本部主管研究員Chief Distinguished Engineer の
服部毅氏を議長に迎え、45nm 以降を見据えた洗浄技術の課
題についてデバイスメーカーや製造装置メーカーなどによる
幅広い講演が行われた。講演後には、FEOL 洗浄、ベベル、
High-k ゲート絶縁膜、メガソニックの必要性などについてパ
ネルディスカッションが行われ、今後の洗浄技術の展望につ
いてメーカー間の垣根を越えた活発な意見が交わされた。 More...
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